CAS:12055-23-1丨 Hafniumoksid

Hafniumdioksid er et slags keramisk materiale med bredt båndgap og høy dielektrisk konstant. Nylig har det vakt stor oppmerksomhet i industrien, spesielt innen mikroelektronikk, fordi det sannsynligvis vil erstatte portisolasjonslaget av gull Chemicalbook oxide semiconductor field effect tube (MOSFET), som er kjernen i silisiumbaserte integrerte kretser. For å løse størrelsesgrenseproblemet ved utvikling av tradisjonelle SiO2/Si-strukturer i MOSFET.

For produksjon av metall hafnium og hafnium legering råmateriale. Brukes som ildfast, antiradioaktivt belegg og katalysator.

CAS:12055-23-1

Populære tags: cas:12055-23-1丨hafniumoksid, pris, tilbud, rabatt, på lager, til salgs